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	電鍍設備的工藝要求

      
	    
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      電鍍設備的工藝要求
      

      	
	
      
	  發布日期：2016-08-23 12:56
	 來源：http://www.xh5599.com
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      電鍍設備的工藝要求
      電鍍設備的工藝要求
      1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
      2. 鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
      3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。
      4. 鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。
      5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
      6.環境溫度為-10℃～60℃。
      7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
      8.水處理設備最大工作噪聲應不大于80dB(A)。
      9.相對濕度(RH)應不大于95%。
      10.原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

      
    
      相關標簽：電鍍廢水 
      
   
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