電鍍含氰廢水處理中的破氰處理方法

電鍍廢水處理，主要是氰化電鍍，主要用于鍍鋅、鍍鉛、鍍鎘、鍍銅、鍍銀、鍍金。在含氰廢水中，廢水中含有劇毒的游離氰化物CN-會與人體中高鐵細胞色素酶結合，生成氰化高鐵細胞色素氧化酶而失去氧的傳遞功能,在體內引起組織缺氧而窒息。氰化物對人的致死量因人而異,大約在0.5 mg/kg~3.5 mg/kg,含氰廢水中總氰化物以CN-計表三排放濃度0.2mg/L.
國內含氰廢水處理方法比較多,但是運用最多的是采用化學法來處理含氰廢水。目前處理含氰廢水比較成熟的技術是采用堿性氯化法處理，必須注意含氰廢水要與其它廢水嚴格分流，避免混入鎳、鐵等金屬離子，否則處理困難。印制線路板廢水處理廠家
通過氯處理來分解氰化物，可在酸性溶液中進行，因有濃度相當大的氯化氫有毒氣體產生，操作也很不安全。但如果在堿性條件下進行氯處理，中間產物氯化氫幾乎在一剎那間都轉化為氰酸鹽，于是此法在氰化物處理方面已成為實際的而且安全的方法。該法的原理是廢水在堿性條件下，采用氯系氧化劑將氰化物破壞而除去的方法，處理過程分為兩個階段，第一階段是將氰氧化為氰酸鹽，對氰破壞不徹底，叫做不完全氧化階段，該工藝的原理是在堿性條件下（一般pH≥10），用次氯酸鹽將氰化物氧化成氰酸鹽。印制線路板廢水處理技術
CN-＋ClO-＋H2O→CNCl＋2OHCNCl＋2OH-→CNO-＋Cl-＋H2O
將兩式合并，得
CN-＋ClO-→CNO-＋Cl-
CNO-＋2H2O→CO2＋NH3＋OH-
局部氧化法破氰反應生成的氰酸根的毒性是CN-的1/1 000，所以有的廠在廢水濃度比較低時，廢水經局部破氰處理后就排入后續的處理金屬離子的處理設施。但是，CNO-畢竟是有毒物質，在酸性條件下極易水解生成氨（NH3）。pH反應條件控制：一級氧化破氰：值10~11；理論投藥量：簡單氰化物CN-:Cl2=1:2.73，復合氰化物CN-:Cl2=1:3.42。用ORP儀控制反應終點為300 mv~350 mv，反應時間10 min~15 min。
第二階段是將氰酸鹽進一步氧化分解成二氧化碳和水，叫完全氧化階段。在局部氧化處理的基礎上，調節廢水的pH（一般pH≥8.5），再投加一定量的氧化劑，經攪拌使CNO-完全氧化為N2和CO2。
pH反應條件控制：二級氧化破氰：pH值7-8（用H2SO4回調）；理論投藥量：簡單氰化物CN-:Cl2=1:4.09，復合氰化物CN-:Cl2=1:4.09。用ORP儀控制反應終點為600mv~700mv；反應時間10min~30min。反應出水余氯濃度控制在3 mg/L~5 mg/L。另有采用次氯酸鈉、亞氯酸鈉、漂粉等替代氯氣的方法，其原理和方法與通氯氣相同，而類似加氯器的特殊裝置卻不再需要，而且可以避免氯氣泄露的危險，它適用于小規模的污水處理。在已決定采用這種處理法的場合，必須考慮到殘存的氯在放流目的地所發生的影響。